一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述

疏水白炭黑研磨分散機(jī) 多孔性無定型二氧化硅研磨分散機(jī)，高速研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)分體式研磨分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī)，不銹鋼研磨分散機(jī)，研磨分散機(jī)價(jià)格，研磨分散機(jī)廠家

二、疏水白炭黑的介紹

疏水白炭黑是一種多孔性無定型二氧化硅，呈白色粉末狀，其初生粒徑為納米顆粒，zui終粒徑2～3um ，它和橡膠、塑料、涂料混和后，能使產(chǎn)品具有各種良好的物理性能，它作為天然橡膠及人造橡膠淺色制品的良好填充劑，一方面減少橡膠的用量，降低成本，另一方面能提高橡膠制品的硬度，耐磨性，減少變形，增加耐油性；用于乳膠塑料皮革，輕質(zhì)材料制品中，則易于脫膜和成型，減輕制品的重量；用于電線電纜中，能提高其絕緣性能；用于油漆油墨中，則是良好的增稠劑；用于涂料則具有耐高溫性能，因而本品被廣泛用于橡膠、塑料、制革、油漆、體育文化用品等行業(yè)。     

疏水白炭黑具有*的表面活性，在某些橡膠制品中具有透明、半透明性質(zhì)；特別適宜做淺色、艷色、透明、半透明橡膠制品。此外，可作為乳膠的隔離劑、油漆油墨的防沉劑、增稠劑、觸變劑，各種塑料箔膜的張口劑；農(nóng)藥顆粒劑、分散劑；粘合劑材料和輕質(zhì)材料制品以及牙膏磨料等，并可用于中高檔原子灰系列產(chǎn)品

三、研磨分散機(jī)的介紹

GM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

研磨頭表面涂料一層及其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理，這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑，研磨頭處形成了一個(gè)具有較強(qiáng)的剪切區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后粒徑大小都比研磨分散機(jī)GM2000的效果更加理想。

四、研磨分散機(jī)的工藝

GM2000系列多孔性無定型二氧化硅研磨分散機(jī)具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。高剪切分散乳化機(jī)由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

三級錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式研磨分散機(jī)比普通的臥式研磨分散機(jī)的速度達(dá)到3倍以上,的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到18000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。        

五、研磨分散機(jī)在設(shè)計(jì)上的突出優(yōu)點(diǎn)在于：

1、轉(zhuǎn)速14000rpm，相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出約三倍：

2、磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有*設(shè)計(jì),使之研磨作用力更大，效果更好。

3、德國進(jìn)口雙端面機(jī)械密封擁有*結(jié)構(gòu)和特殊材質(zhì)保證高速運(yùn)轉(zhuǎn)和長使用壽命。

4、GM2000/4中試型研磨分散機(jī)與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機(jī)型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應(yīng)線速度相同，中試過程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整，從而將機(jī)器型號升級到工業(yè)化的過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到更低。

六、研磨分散機(jī)的原理

SGN研磨分散機(jī)是對流體物料進(jìn)行精細(xì)加工的機(jī)械。它綜合了均質(zhì)機(jī)、球磨機(jī)、三輥機(jī)、剪切機(jī)、攪拌機(jī)等機(jī)械的多種性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過加工后，粒度達(dá)2～50微米，均質(zhì)度達(dá)90%以上，是超微粒加工的理想設(shè)備。